半导体微影设备龙头艾司摩尔（ASML）表示，找到方法强化晶片制造设备的光源功率，能让晶片产量到2030年最多增加五成，有助ASML维持优势，抵御在美国与中国大陆的新兴对手。
ASML是全球唯一商用极紫外光（EUV）微影设备的制造商，这种设备是台积电、英特尔等生产先进晶片的关键工具。该公司改善晶片制造设备中，最具技术挑战的部分，来拉开与对手的距离 ，也就是打造出具备适当功率与特质的EUV光线，以便大量生产晶片。
ASML研究员发现方法，能将EUV光源功率从现今的600瓦特，提高至1,000瓦特。这么做的最大好处是，光源功率愈强，每小时能生产更多晶片，有助降低每个晶片的成本。
晶片印制方法类似相片，用EUV光线照在涂有光阻剂的矽晶圆上。EUV光源功率愈强，晶片曝光时间愈短。ASML高层Teun van Gogh表示，每部机器到2030年每小时应该能处理约330片矽晶圆，高于现在的220片，相当于产量提高五成。
